2017年6月6日 星期二

研析虛線對解釋申請專利之設計的影響-以美國iPhone設計專利單方再審查案為中心



一般申請設計專利案的圖式中,虛線代表不主張設計之部分,然而某些情形下卻會有相反狀況。虛線該如何認定以及其對解釋專利權範圍有何影響,始終是個爭議之議題。論述由葉哲維先生、徐銘夆先生所著之「研析虛線對解釋申請專利之設計的影響-以美國iPhone設計專利單方再審查案為中心」,首先就美國單方再審查及部分設計專利制度進行介紹,續就iPhone設計再審查案例進行案情說明及討論;最終對於虛線該如何認定及解釋總結看法與結論。


詳細完整內容,請參閱 經濟部智慧財產局

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